НАНОКЕУЕКТІ АЛЮМИНИЙ ОКСИДІ МЕМБРАНАСЫН АЛУ МАҚСАТЫНДА АЛЮМИНИЙ ФОЛЬГАСЫНЫҢ БЕТ-БЕДЕРІН ЖОҒАРЫ ЖИІЛІКТІ ПЛАЗМА АРҚЫЛЫ ӨҢДЕУ

Бұл жұмыс тазалығы 99,999% алюминий фольгасының бет-бедерін жоғары жиілікті разрядта, белгіленген параметрлерді қолдана отырып, плазмамен өңдеуге, осы өңделген алюминий фольгасының бетінде электрохимиялық анодтау процесінің көмегімен алюминий оксидінің реттелген нанокеуекті мембранасын қалыптастыруға және зерттеу кезінде алынған нәтижелердің эксперимент параметрлеріне қаншалықты тәуелді екенін анықтауға негізделген. Негізгі параметр ретінде жоғары жиілікті разрядтың қуат шамасы қолданылған. Қалыңдығы бірдей 50 микрон шамасындағы таза алюминий фольгасының беті үш түрлі қуат шамасымен өңделген. Зерттеу барысында қуат шамасының әртүрлі 20 Вт, 50 Вт және 70 Вт болуына байланысты беттік кедір-бұдырлықтардың өзгеше болып келетіні байқалды. Эксперименттің бірінші сатысына сай таза алюминий фольгасының беті жоғары жиілікті разрядта плазмамамен өңделіп, нәтижесінде туындаған өзгерістер зерттеулер арқылы анықталған. Зерттеу нәтижесінде алюминий фольгасының бетін плазмаман өңдеу барысында тректер туындайтындығы сканирлеуші электрондық микроскоп көмегімен белгілі болып, олардың ерекшеліктері айқындалған. Бұл туындайтын өзгерістер плазмамен өңдеу кезінде жоғары жиілікті разрядты қуат мөлшерінің шамасына байланысты болатыны анықталды. Плазмамен өңделген алюминий фольгасының беті және электрохимиялық анодтаудан кейін қалыптасқан алюминий оксидінің нанокеуекті мембраналары сканерлеуші электрондық микроскоп көмегімен зерттеліп, қуат шамасының мөлшері тректер мөлшеріне және электрохимиялық анодтау процесінен кейін қалыптасқан кеуектердің тығыз немесе алшақ қалыптасуына әсер беретіні белгілі болды. Жалпылама бұл жұмыс нанокеуекті алюминий оксиді мембранасын алу мақсатында алюминий фольгасының бет-бедерін жоғары жиілікті плазма арқылы өңдеуге негізделген.

1. Keller F., Hunter H., Robinson D.//J. Electrochem. Soc.1953.V. 100. № 9. P. 411.

2. Hunter M.S., Fowle H. // J. Electrochem. Soc. 1954.V. 101. № 9. P. 481.

3. Томашов Н. Д., Заливалов Ф.П. Сб. Коррозия металлов и сплавов – М.: Металлургиздат, 1963. – С. 194.

4. Томашов Н.Д., Заливалов Ф.П. Сб. Коррозия металлов и сплавов. – М.: Металлургиздат, 1963. – С. 194.

5. Кауль А.Р. Химические методы синтеза неорганических веществ и материалов. Ч.2. М.: Московский государственный университет им. Ломоносова М.В., – 2008. – 212 с.

6. Oehrlein G.S., Metzler D., C. Li, Atomic layer etching at the tipping point: an overview, ECS J. Solid State SC 4 (2015) N5042–N5053.

7. Doering R., Nishi Y., Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology, CRC Press, New York, 2008, p. 21.

8. Гусев А.И. Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. – М.: Физматлит, 2007. – 416 с.

9. Technology of Integrated Circuits, 2000 “5. Etching Technology” pages 169-206

10. Батаронов И.Л., Гусев А.П., Литвинов Ю.В., Харченко Е.Л., Шалимов Ю.Н. // Альтернативная энергетика и экология. – 2007. – № 11. – С. 118-126.

11. Сурганов В. Ф. // Защита металлов. – 1991. – Т. 27. – № 1. – С. 125-126.

12. Kim D.M., Kim K.B., Yoon S.Y., Oh Y.S., Kim H.T., Lee S.M., Effects of artificial pores and purity on the erosion behaviors of polycrystalline Al2O3 ceramics under fluorine plasma, J. Ceram. Soc. Jpn. 117 (2009) 863–867.

13. Mardilovich P. P., Govyadinov A. N., Mukhurov N. I., Rzhevskii A. M., Paterson R. // J. Membrane Sci. 1995. V. 98. P. 131—142.

14. Bahats’kyy V.O., Vojtovych I.D., Lebyedyeva T. S., Minov Yu. D., Sutkovyy P. H., Frolov Yu. O., Shpyl’ovyy P. B., Ukraine Patent 100934 Bulletin, No. 3: (2013) (in Ukrainian).

15. Степанова А.Ю., Запороцкова И.В., Белов А.Н.// Нанопористые материалы на основе оксида алюминия: механизм образования и технология получения// Вестник ВолГУ. Серия 10. – Вып. 5. – 2011.