ТРАВЛЕНИЕ ПОВЕРХНОСТИ АЛЮМИНИЕВОЙ ФОЛЬГИ С ИСПОЛЬЗОВАНИЕМ ВЫСОКОЧАСТОТНОЙ ПЛАЗМЫ С ЦЕЛЬЮ ПОЛУЧЕНИЯ МЕМБРАНЫ НАНОПОРИСТОГО ОКСИДА АЛЮМИНИЯ

Эта работа основана на обработке поверхности алюминиевой фольги с чистотой 99,999% в высокочастотном разряде плазмой с применением установленных параметров, формировании упорядоченной мембраны нанопористого оксида алюминия с помощью процесса электрохимического анодирования на поверхности этой обработанной алюминиевой фольги и определение того, насколько результаты, полученные при исследовании, зависят от параметров эксперимента. В качестве основного параметра использовалась величина мощности высокочастотного разряда. Поверхность чистой алюминиевой фольги в одинаковой 50-микронной толщины обработана тремя различными величинами мощности. В ходе исследования было отмечено, что поверхностные шероховатости зависят от различных величин мощности 20 Вт, 50 Вт и 70 Вт. В соответствии с первой частью эксперимента поверхность чистой алюминиевой фольги обрабатывается плазмой в высокочастотном разряде, в результате которых были выявлены изменения в ходе исследований. В результате исследования установлено, что при плазменной обработке поверхности алюминиевой фольги образуются треки, которые были установлены с помощью сканирующего электронного микроскопа и определены их особенности. Установлено, что эти изменения зависят от величины количества мощности высокочастотного разряда при плазменной обработке. Поверхность алюминиевой фольги, обработанной плазмой, и мембраны нанопористого оксида алюминия, сформированные после электрохимического анодирования, были исследованы с помощью сканирующего электронного микроскопа. Стало известно, что величина мощности влияет на расположение треков и как плотно или удаленно образованы пористые структуры, сформированные после процесса электрохимического анодирования. В целом эта работа основана на обработке поверхности алюминиевой фольги с использованием высокочастотной плазмы с целью получения мембраны оксида алюминия.

1. Keller F., Hunter H., Robinson D.//J. Electrochem. Soc.1953.V. 100. № 9. P. 411.

2. Hunter M.S., Fowle H. // J. Electrochem. Soc. 1954.V. 101. № 9. P. 481.

3. Томашов Н. Д., Заливалов Ф.П. Сб. Коррозия металлов и сплавов – М.: Металлургиздат, 1963. – С. 194.

4. Томашов Н.Д., Заливалов Ф.П. Сб. Коррозия металлов и сплавов. – М.: Металлургиздат, 1963. – С. 194.

5. Кауль А.Р. Химические методы синтеза неорганических веществ и материалов. Ч.2. М.: Московский государственный университет им. Ломоносова М.В., – 2008. – 212 с.

6. Oehrlein G.S., Metzler D., C. Li, Atomic layer etching at the tipping point: an overview, ECS J. Solid State SC 4 (2015) N5042–N5053.

7. Doering R., Nishi Y., Handbook of Semiconductor Manufacturing Technology, CRC Press, New York, 2008, p. 21.

8. Гусев А.И. Наноматериалы, наноструктуры, нанотехнологии. – М.: Физматлит, 2007. – 416 с.

9. Technology of Integrated Circuits, 2000 “5. Etching Technology” pages 169-206

10. Батаронов И.Л., Гусев А.П., Литвинов Ю.В., Харченко Е.Л., Шалимов Ю.Н. // Альтернативная энергетика и экология. – 2007. – № 11. – С. 118-126.

11. Сурганов В. Ф. // Защита металлов. – 1991. – Т. 27. – № 1. – С. 125-126.

12. Kim D.M., Kim K.B., Yoon S.Y., Oh Y.S., Kim H.T., Lee S.M., Effects of artificial pores and purity on the erosion behaviors of polycrystalline Al2O3 ceramics under fluorine plasma, J. Ceram. Soc. Jpn. 117 (2009) 863–867.

13. Mardilovich P. P., Govyadinov A. N., Mukhurov N. I., Rzhevskii A. M., Paterson R. // J. Membrane Sci. 1995. V. 98. P. 131—142.

14. Bahats’kyy V.O., Vojtovych I.D., Lebyedyeva T. S., Minov Yu. D., Sutkovyy P. H., Frolov Yu. O., Shpyl’ovyy P. B., Ukraine Patent 100934 Bulletin, No. 3: (2013) (in Ukrainian).

15. Степанова А.Ю., Запороцкова И.В., Белов А.Н.// Нанопористые материалы на основе оксида алюминия: механизм образования и технология получения// Вестник ВолГУ. Серия 10. – Вып. 5. – 2011.